真空系统
直线式劳挨透镜镀制机
产品特点
- 该设备为国内首台套设备，拥有纳米多层膜制备、离子束抛光、曲面均匀沉积等多项关键核心技术，可完成各类聚焦镜、单色镜、劳埃镜等膜层制备，具有膜层数多（可达数千层），膜层位置精度高（平均误差小于5nm），厚度精度高（误差小于0.1nm)等特点，用于国家重大科技基础设施高能同步辐射光源（HEPS）项目，为基础科学和工程科学等领域原创性、突破性创新研究提供重要支撑。
- 运动系统直线度
≤30μm/1000mm
- 运动系统速率稳定性
≤0.1% /300mm
- 基板加热最高温度
200℃
- 靶位数
≥9个
- 靶与样品间距离
60~100mm手动可调
- 沉积室极限真空度
＜8×〖10〗^(-6)Pa
- 检测室腔室漏率
＜1×〖10〗^(-8)Pa∙L/s
- 检测室极限真空度
＜8×〖10〗^(-6)Pa
- 进样室基板加热最高温度
500℃
- 进样室本底极限真空度
＜8×〖10〗^(-5)Pa
